真空CDLC膜層又稱類金剛石膜層，其原理是屬于PVD聯(lián)合化學(xué)氣相沉積的過程，是利用氣態(tài)物質(zhì)通過化學(xué)反應(yīng)在基片表面形成固態(tài)薄膜的一種成膜技術(shù)。

真空CDLC膜層沉積的三個(gè)階段：1）反應(yīng)氣體向基體表面擴(kuò)散  2）反應(yīng)氣體吸附于基體表面 3）在基體表面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物及產(chǎn)生的氣相副產(chǎn)物脫離基體表面。

CDLC成膜的過程：反應(yīng)氣體（C2H2）在等離子體作用下發(fā)生離子化，形成激發(fā)態(tài)的活性C基團(tuán)，這些活性C基團(tuán)通過擴(kuò)散到達(dá)基片表面，完成薄膜生長。

CDLC對比普通PVD工藝，它的膜層硬度可達(dá)1500HV以上，膜層的厚度一般在2微米以上，較低的耐摩擦系數(shù)和抗刮花能力是它以裝飾膜和功能膜被廣泛應(yīng)用在智能穿戴手表及傳統(tǒng)手表配件上的重要因素。

當(dāng)然真空CDLC膜層也有它的局限性，其一就是鍍膜工藝復(fù)雜，所以成本較高；其二是顏色比較局限，L值一般在40以上，所以外觀裝飾上，比較單調(diào)。