所謂的磁控濺射鍍膜 陰陽面其實就是正對靶材和背對靶材導(dǎo)致的膜厚有公差的情況。那到底有多大公差呢？今天就來說說影響因素和對策。

磁控濺射鍍膜的膜厚公差是受裝載的疏密及產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)造成的，有客戶說，我家的產(chǎn)品要求嚴(yán)格，不允許有公差，但磁控濺射鍍膜膜厚有公差不可避免，要減少膜厚公差最直接的辦法就是減少裝載量，成本也會有所影響，要提前告知客戶，并提供不同的裝載量產(chǎn)品對比，讓客戶心中有數(shù)。還有一種降低測控濺射鍍膜公差的方法就是在公自轉(zhuǎn)的基礎(chǔ)上實現(xiàn)產(chǎn)品的自轉(zhuǎn)，這對設(shè)備和工程的要求極高，一般企業(yè)很難配置如此精密的設(shè)備，除非客戶有固定長期的訂單承諾。當(dāng)然如果選擇真空離子蒸發(fā)鍍，膜層厚度的公差會小一些，但性能測試的結(jié)果相對來說弱一些。

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