磁控濺射鍍膜是物理氣相沉積的一種，在實(shí)際運(yùn)用中，如果操作不當(dāng)，機(jī)器故障，就會(huì)出現(xiàn)“靶中毒”現(xiàn)象。 如：靶材電壓低于正常值，濺射速度也會(huì)隨之下降；靶材表面出現(xiàn)一層灰白色，大概率是氧化物覆蓋；PVD真空爐內(nèi)壁上出現(xiàn)了絕緣層，會(huì)導(dǎo)致原子到達(dá)陽(yáng)極后無(wú)法進(jìn)入，陽(yáng)極消失；還有黑色L值30以下的膜層，而這種膜層的形成需要很高的碳元素，工藝穩(wěn)定性比較差，極易出現(xiàn)“靶中毒”

     那如何避免及解決“靶中毒”呢？

     第一，目前較好的解決方案是采用中頻磁控濺射鍍膜技術(shù)，結(jié)合漸進(jìn)式進(jìn)氣方式，可以很好的解決“靶中毒”產(chǎn)生的高壓擊穿放電，也不會(huì)出現(xiàn)陽(yáng)極消失

     第二，控制反應(yīng)氣體通入速度，提前計(jì)算好靶中毒遲滯曲線，嚴(yán)格控制反應(yīng)氣體流量，防止靶材金屬態(tài)到化合物狀態(tài)的突變，降低膜層顏色偏紅、偏綠的現(xiàn)象

    第四，長(zhǎng)期放置易氧化的靶材進(jìn)行處理后再濺射

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