磁控濺射技術(shù) 沉積的膜層均勻、致密、針孔少，純度高，附著力強，可以在低溫、低損傷的條件下實現(xiàn)高速沉積各種材料薄膜，已經(jīng)成為當今真空鍍膜中的一種成熟技術(shù)與工業(yè)化的生產(chǎn)方式。磁控濺射技術(shù)就是利用電磁場來控制真空腔體內(nèi)氣體“異常輝光放電”中離子、電子的運動軌跡及分布狀況的濺射鍍膜的工藝過程。

鍍金屬膜時，一般用氬氣作為工作氣體，它是惰性氣體，在真空狀態(tài)下加熱基片時不會發(fā)生氧化作用；

氧氣一般用于鍍非金屬膜，如TiO2，不必擔心鍍好膜后發(fā)生膜氧化現(xiàn)象；

氮氣是在換靶鍍膜時往真空室沖入的氣體，讓真空室內(nèi)壓強和大氣壓強保持相等，才能開蓋換靶鍍另一層膜。

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