磁控濺射技術(shù) 與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同。濺射是指核能粒子轟擊固體表面，使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因?yàn)殡x子在電場(chǎng)下易于加速獲得所需要?jiǎng)幽?，因此大都采用離子作為轟擊粒子。

濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射技術(shù) 是利用環(huán)狀磁場(chǎng)控制下的輝光放電。