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采用薄膜干涉策略構(gòu)建氮化鋁彩色功能薄膜(中)
來源: | 發(fā)布日期:2023-10-06

        接上一篇采用薄膜干涉策略構(gòu)建氮化鋁彩色功能薄膜 中我們講到了物體顏色的起源,現(xiàn)在我們來了解下薄膜干涉的原理:假設(shè)照射一束光波于薄膜,由于折射率不同,光波會(huì)被薄膜的上界面與下界面分別反射,因相互干涉而形成新的光波,這現(xiàn)象稱為薄膜干涉。由于光的波動(dòng)性,兩個(gè)界面的反射光可能干涉相長(zhǎng)(強(qiáng)度增加)或干涉相消(強(qiáng)度減?。?,這取決于它們的相位關(guān)系。如果兩束光的波峰或波谷重合,就會(huì)增強(qiáng)光的干涉效應(yīng),形成亮條紋(圖2(a));如果兩束光的波峰和波谷錯(cuò)開,就會(huì)相互抵消,形成暗條紋(圖2(b))。相位關(guān)系取決于兩個(gè)反射光不同的光程,而光程取決于薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)和波長(zhǎng)。

彩色功能薄膜

薄膜干涉原理解釋了光線通過薄膜時(shí)發(fā)生的干涉現(xiàn)象和顏色變化,具有廣泛的應(yīng)用。例如,在光學(xué)領(lǐng)域,薄膜干涉被用于制造反射鏡、透鏡、光學(xué)濾波器等光學(xué)器件。薄膜干涉還可以應(yīng)用于材料表面的薄膜涂層,用于調(diào)控光的反射、透射和吸收特性。此外,在生物科學(xué)中,薄膜干涉也被應(yīng)用于細(xì)胞觀測(cè)和蛋白質(zhì)結(jié)構(gòu)研究等領(lǐng)域。通過薄膜厚度、折射率和入射光的波長(zhǎng),可以計(jì)算和預(yù)測(cè)干涉條紋的位置和顏色變化。這個(gè)原理在光學(xué)器件制造和材料科學(xué)等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用和重要的意義。

彩色功能薄膜

圖2. 薄膜干涉原理。(a)相長(zhǎng)干涉,(b)相消干涉,(c)薄膜干涉光程差示意圖

薄膜干涉原理如圖2(c)所示,當(dāng)光線由疏介質(zhì)n0進(jìn)入密介質(zhì)n被反射,是要發(fā)生半波損失的,即反射光在離開反射點(diǎn)A時(shí),振動(dòng)方向相對(duì)于入射波到達(dá)入射點(diǎn)A時(shí)的振動(dòng)相差半個(gè)周期,光的相位會(huì)轉(zhuǎn)180度(光線1)。相反的,透射到薄膜中的折射光線在薄膜下表面B發(fā)生反射時(shí),是從光密介質(zhì)n向光疏介質(zhì)n0,此時(shí)發(fā)生反射的時(shí)候沒有發(fā)生半波損失(光線2),相位不變。半波損失使得光線1相位變化了π。因此,光線1和2的光程差為[3,4]

Δ=2ndcosθ+λ/2(1)

結(jié)合雙縫干涉條件[2],可以推導(dǎo)得到:

亮條紋條件:  Δ=2ndcosθ+λ/2=2k·λ/2(2)

暗條紋條件: Δ=2ndcosθ+λ/2=(2m+1)·λ/2(3)

式中,n為薄膜的折射率;λ為入射光的波長(zhǎng);d為薄膜厚度;θ為薄膜上表面折射角;k為正整數(shù);m為非負(fù)整數(shù);λ/2是由于兩束相干光在光疏/光密界面上反射而引起的附加光程差。

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