磁控濺射鍍膜 膜層厚度穩(wěn)定性好，因為濺射鍍膜膜層的厚度與靶電流和放電電流具有很大的聯(lián)系，電流越高，濺射功率越大，同樣時間內(nèi)，所鍍膜層的厚度相對就大了，因為只要把電流數(shù)值操控好，需求鍍多厚，或許多薄的膜層都能夠了，當(dāng)然這個厚度是在可答應(yīng)的規(guī)模內(nèi)，而且操控好電流，不管重復(fù)鍍多少次，膜層厚度都不會改變，膜厚的安穩(wěn)性可歸結(jié)為膜厚杰出的可控性和重復(fù)性。

       膜層結(jié)合力附著力強，在濺射過程中，有些電子撞擊到基材外表，激活外表原子，而且發(fā)生清洗的作用，而鍍材經(jīng)過濺射所取得的能量比蒸騰所取得的能量高出1到2個數(shù)量級，帶有如此高能量的鍍材原子撞擊到基材外表時，有更多的能量能夠傳遞到基材上，發(fā)生更多的熱能，使被電子激活的原子加速運動，與有些鍍材原子更早相互溶合到一同，其他鍍材原子緊隨著陸續(xù)沉積成膜，加強了膜層與基材的結(jié)合力。

       鍍材范圍廣，因為磁控濺射鍍膜 是經(jīng)過氬離子的高速轟擊使鍍材濺射出來的，不像蒸發(fā)鍍膜因為熔點的原因此約束只能運用熔點比較低的鍍材，而濺射鍍膜簡直一切固體的物質(zhì)都能夠變成鍍材。