PVD鍍膜的原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在素材上。由于采用濺射的方式，自然對一些結(jié)構(gòu)特殊的貨品，比如帶子節(jié)縫很緊，節(jié)縫處無法濺射進去，就會有漏鍍的現(xiàn)象;異形結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品，凹槽位，也無法濺射進去，也會出現(xiàn)漏鍍及起彩的現(xiàn)象，這是PVD鍍鏌技術(shù)的局限性。

電鍍產(chǎn)品PVD鍍膜前都需要清洗，對于一些有特殊要求的產(chǎn)品，上架方式需要特別注意，尤其是上入爐架，要校正角度，以滿足客戶的的特殊需求。需電鍍的貨品，上清洗架，那么產(chǎn)品一定需要有可上掛的位置，上掛的點漏鍍的位置要事先跟客戶確認好，可否接受。常規(guī)殼，圈，帶可采用夾盤，抻盤，掛盤都可以把產(chǎn)品固定在清洗架上，以確保產(chǎn)品在清洗槽內(nèi)，超聲振動也不會掉落。同樣的，貨品進入真容爐體內(nèi)，也需要上入爐架，因真空爐體是密封的空間，為保證顏色的均勻性，貨品在爐體需要轉(zhuǎn)動，產(chǎn)品也需要有掛點，所以PVD鍍膜的產(chǎn)品沒有掛點的話，無法實現(xiàn)真空爐內(nèi)電鍍。

PVD鍍膜的局限性，行業(yè)同仁也在不停的研究，在不久的將來，相信會解決的。