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PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域
來源: | 發(fā)布日期:2022-01-21

PVD鍍膜技術(shù)在生活、工業(yè)、國防和科研等眾多領(lǐng)域發(fā)揮著越來越大的作用。我們生活中常見的傳統(tǒng)化學(xué)電鍍(水電鍍)與真空鍍膜有很大的區(qū)別:傳統(tǒng)化學(xué)電鍍膜層的粘合力沒有PVD鍍膜膜層牢固,膜層的硬度也相對較差,耐磨性和耐腐蝕性也較弱,膜層的性能也不是相對穩(wěn)定;傳統(tǒng)化學(xué)電鍍會產(chǎn)生有污染的物質(zhì),而PVD鍍膜的優(yōu)勢確保證了傳統(tǒng)化學(xué)電鍍的這些缺點。PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要包含以下領(lǐng)域:

1、電子元件薄膜,如: Ta、 Sn、 Sb、金屬電阻膜:Au、Pt、Al、電極:Zn、Al電容等。

2、制備太陽能電池的透明導(dǎo)電薄膜、正負電極、減少光損失的增透射膜以及光電池。

PVD鍍膜技術(shù)

3、電子元件上的絕緣膜,集成電路上分隔小電子器件的隔離膜。

4、反射膜以及減反射膜,例如:投影儀、望遠鏡以及光學(xué)儀器上的各種透光膜。

5、無機及金屬防護薄膜。

6、有機高分子薄膜。

7、包裝膜。

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【本文標簽】 PVD鍍膜技術(shù)

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