PVD涂層又稱為物理氣相沉積技術(shù)，PVD涂層技術(shù)主要有磁控濺射鍍、多弧離子鍍和蒸發(fā)鍍?nèi)N，是當(dāng)前被廣泛應(yīng)用的先進(jìn)表面處理技術(shù)。而這三種涂層技術(shù)各有其優(yōu)缺點(diǎn)，磁控濺射技術(shù)是目前被應(yīng)用最多的一種，主要被應(yīng)用在精密配件上。今天主要來(lái)說(shuō)說(shuō)通過(guò)磁控濺射技術(shù)形成的表面涂層的特點(diǎn)：

磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)：1、膜層顆細(xì)小，納米級(jí)厚度即可滿足膜層裝飾的要求，且持久不變色。2、鍍層均勻，緩慢的沉積過(guò)程可實(shí)現(xiàn)高精度鍍膜，膜層的致密性也更好。3、結(jié)合力好，相比傳統(tǒng)的涂層工藝，磁控濺射鍍出的膜層和基材的結(jié)合力更好，更耐磨損。4、工藝相對(duì)復(fù)雜，在生產(chǎn)符合膜層時(shí)，設(shè)備的配置要求更高一些。

總之，通過(guò)磁控濺射技術(shù)形成的PVD涂層其膜層的致密性更好，精度更準(zhǔn)，結(jié)合力更強(qiáng)，在裝飾基材的同時(shí)，能大幅提升產(chǎn)品的壽命，尤其是在高精密的金屬配件上被廣泛應(yīng)用。