你知道PVD真空鍍膜工藝 對環(huán)境的要求嗎？如果不知道，就看我來說道說道吧！

真空鍍膜工藝基材表面的清潔和處理非常重要?；谋砻嫖廴緛碜愿鞣N灰塵、拋光膏、油、汗?jié)n等附著在零件加工、傳輸、包裝過程中的物品、濕空氣中產(chǎn)生的氧化膜、吸收和吸附的氣體。這些污垢基本上可以通過去除油或化學(xué)清洗來去除。

真空鍍膜工藝對基材潔凈度的要求：所謂的常規(guī)真空工藝是指沒有特殊要求的真空工藝過程，它們都不能有堆積的污染源。

1.真空環(huán)境中的所有部件都要求無灰塵、鐵屑、銹蝕；

2.真空電鍍過程中基材外觀應(yīng)光滑，無軟組織、氣孔、內(nèi)焊等影響真空環(huán)境的缺陷；

3.真空室內(nèi)運(yùn)動部件不得使用機(jī)油作為潤滑劑，高真空設(shè)備應(yīng)使用飽和蒸氣壓低的擴(kuò)散泵油和硅油作為潤滑劑；

4.真空室內(nèi)相對濕度不高于清潔空氣循環(huán)環(huán)境的70%；

PVD真空鍍膜工藝 除了具有良好的機(jī)械性能外，還應(yīng)滿足其他性能的要求。如您認(rèn)可我們環(huán)保的真空鍍膜工作環(huán)境，歡迎致電：18018742966。