PVD真空鍍膜有裝飾性和功能性兩大類膜層。PVD真空鍍膜裝飾性膜層往往缺乏令人滿意的耐蝕性。那么，如何改善PVD真空鍍膜的耐蝕性呢？

首先，我們需要了解產(chǎn)生腐蝕的原因。PVD裝飾性薄膜通常是生長的柱狀微觀結(jié)構(gòu)，呈現(xiàn)多種生長缺陷，如柱縫、孔隙、晶界等。因此，它們并不能對腐蝕敏感的襯底進行充分的保護。一般來說，PVD真空鍍膜膜層具有較高的電化學位，所以膜層本身有較高的耐蝕性，但是與膜層接觸的各種電解質(zhì)如水、汗液等容易穿透缺陷到達基體，電位高的膜層與電位低的基體經(jīng)電解質(zhì)導(dǎo)通形成原電池，導(dǎo)致電偶腐蝕，從而引起電化學位較低的基體很快發(fā)生腐蝕。如何優(yōu)化PVD真空鍍膜涂層沉積方法來提升產(chǎn)品耐蝕性，主要涉及厚和密。裝飾性的PVD真空鍍膜膜層一般不會超過5um. 這種厚度是無法提供有效的防腐保障的。而厚度的增加使PVD真空鍍膜沉積時間過長，增加生產(chǎn)成本，另外一方面，厚度增加導(dǎo)致內(nèi)應(yīng)力升高，往往惡化附著力，導(dǎo)致涂層脫落。除此之外厚度的增加會造成PVD真空鍍膜涂層表面粗糙度值增大，降低了表面的光澤度，影響PVD真空鍍膜的裝飾性能，因此通過增加厚度來提升PVD真空鍍膜膜層的耐蝕性有點得不償失。膜層缺陷導(dǎo)致電解質(zhì)滲入是基材腐蝕主要原因，因此增加PVD真空鍍膜涂層的致密性是提升其耐蝕性的主要方向。
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