PVD（物理氣相沉積）技術(shù)一開始應(yīng)用在提高機(jī)械力學(xué)性能的硬質(zhì)膜方面，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。PVD納米鍍鈦 工藝對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。

PVD納米鍍鈦 工藝處理溫度可控制在150~500℃以下，因此鍍鈦工藝可用于多種材質(zhì)基體的涂層，不僅具有多姿多彩的裝飾效果，更重要的是采用PVD技術(shù)可使涂層具有優(yōu)異的理化特性，大幅度強(qiáng)化基體表面諸如硬度、摩擦系數(shù)等物理特性指標(biāo)。 真空離子鍍鈦應(yīng)用的就是PVD技術(shù)。 金屬在特定環(huán)境下（壓力，溫度，電磁場(chǎng)等）與各種氣體（氬氣，氮?dú)?，氧氣等）產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過(guò)加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。

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