PVD離子鍍是離子鍍膜技術的簡稱，即ion plating.PVD離子鍍是結合真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍的特點而發(fā)展起來的一種鍍膜技術。

PVD離子鍍是在氣體放電或真空中，在氣體離子或蒸發(fā)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質電離，在基體上沉積。PVDl離子鍍是輝光放電/等離子體技術和真空蒸發(fā)技術的結合，大大提高了涂層的性能，拓寬了涂層技術的應用范圍。離子鍍膜技術具有附著力強，繞射性好，環(huán)保等優(yōu)點。其重要的特點是在基體上施加負偏壓，加速離子的形成。PVD離子鍍同其他PVD涂層工藝一樣得到了飛速的發(fā)展，應用領域也越來越廣泛，并且將會在未來很長一段時間為不斷發(fā)展的制造業(yè)提供服務。

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