pvd真空電鍍的原理主要有哪些呢？接下來由武漢PVD鍍膜廠帶您了解一下。

pvd真空電鍍的基本原理主要是物理學氣相沉積，是當今國際上廣泛運用的先進的表面處理技術(shù)。其原理便是在真空條件下，利用氣體放電使汽體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下把蒸發(fā)物或其生成物沉積在基材上。

pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清潔的特性，尤其具備膜層粘合力強、繞性好、可鍍材料普遍等優(yōu)勢。 選用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝技術(shù)，及在這個基礎(chǔ)上與國際專家的工藝自主創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍領(lǐng)域二十多年的可貴工作經(jīng)驗，為客人給予合適的金屬涂層生產(chǎn)加工計劃方案。

pvd真空電鍍抗氧化，耐腐蝕，抗腐蝕，化學性能穩(wěn)定，抗酸。手機殼PVD鍍膜，鍍膜外殼容易消除油漆和指紋。在強烈的陽光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不退色，不掉膜。可鍍材料普遍，與基材結(jié)合性強。

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