在真空鍍膜 過程中，表面不光滑是一個(gè)常見的問題。這可能由多種因素引起，如真空度不足、氣體流動(dòng)不均勻、基材材料質(zhì)量不佳、基片溫度不均勻等。

首先，真空度不足是導(dǎo)致鍍膜表面不光滑的主要原因。在真空鍍膜過程中，環(huán)境內(nèi)的氣壓過低會(huì)導(dǎo)致氣體流動(dòng)不均勻，從而影響膜層的平整度。其次，基材的表面光潔度也是影響膜層光滑度的關(guān)鍵因素。再者，如果基材純度不夠，可能就會(huì)在膜層中形成顆粒或者氣泡，導(dǎo)致表面不光滑。最后，基材溫度的均勻性也會(huì)對膜層的平整度產(chǎn)生影響。

總的來說，真空鍍膜表面不光滑的原因有很多，森豐真空鍍膜會(huì)根據(jù)具體情況進(jìn)行分析和調(diào)整。通過優(yōu)化工藝參數(shù)，選擇合適的鍍膜材料，以及保證設(shè)備的正常運(yùn)行等提升真空鍍膜 表面的光滑度，如果您有真空鍍膜加工需求，歡迎您來森豐洽談或撥打18018743855。