真空鍍膜 是制造光學(xué)和裝飾薄膜的常用技術(shù)，然而，有時鍍膜面可能會出現(xiàn)不光滑的現(xiàn)象。這可能是由于以下幾個原因：

1.基材的表面處理不當(dāng)：在鍍膜前，基材表面必須徹底清潔，以防止殘留物或污染物影響鍍膜質(zhì)量。如果基材表面有殘留物、劃痕、紋理或其他缺陷，那么鍍膜面就可能出現(xiàn)不光滑的現(xiàn)象。

2. 真空室內(nèi)的污染：真空室內(nèi)的清潔程度對鍍膜面的光滑度有很大的影響。如果真空室內(nèi)有灰塵、雜質(zhì)或其他污染物，它們可能會附著在基材表面，導(dǎo)致鍍膜面不光滑。

3.蒸發(fā)源的清潔度：蒸發(fā)源的清潔度也是影響鍍膜面光滑度的因素之一。如果蒸發(fā)源上有殘留物、污垢或其他污染物，那么它們可能會在鍍膜過程中污染基材表面，導(dǎo)致鍍膜面不光滑。

4. 鍍膜工藝參數(shù)不當(dāng)：鍍膜工藝參數(shù)如蒸發(fā)速率、濺射功率、氣體流量等不當(dāng)，都可能影響鍍膜面的光滑度。如果這些參數(shù)設(shè)置不當(dāng)，就可能導(dǎo)致鍍膜面出現(xiàn)不均勻、顆粒狀或不光滑的現(xiàn)象。

總之，要解決真空鍍膜 面不光滑的問題，需要從基材表面處理、真空室清潔、蒸發(fā)源清潔和鍍膜工藝參數(shù)等方面入手，確保每個環(huán)節(jié)都得到良好的控制和管理。