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真空鍍膜前對素材的要求
來源: | 發(fā)布日期:2021-10-09

PVD真空鍍膜:是一種物理氣相沉積工藝,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍素材上的薄膜技術(shù)。素材爐體鍍成膜時有兩個很重要條件,一是高真空狀態(tài),二是素材質(zhì)量,所以,鍍膜的素材表面必須是干凈的、無任何附著物的條件下,才能進入爐體內(nèi),在高真空條件下完成鍍膜。

真空鍍膜

對待電鍍的素材胚料表面有比較高的要求:

1.表面不能有其它表面改性處理的附著層,如回火氧化層、電鍍鉻、氧化發(fā)黑層等。

2.表面不能有銹跡、油漆、膠水、燒焦料。

3.組合式的胚料或有特殊要求必須全方位電鍍到的,必須完全拆解成單獨部件,以便于電鍍前的清洗。組合件清洗時會有臟污溢出,清洗不干凈,加大了清洗難度,有些帶子需要反復抽真空,烘烤才可以處理干凈。組合件容易在爐體內(nèi)的高溫狀態(tài)下因高溫膨脹系數(shù)損壞被電鍍的胚料。

4.焊接結(jié)構(gòu)胚料的表面需要徹底清潔處理,不能有氧化層或埋孔,否則電鍍膜層容易脫落,附著力差。

真空鍍膜電鍍的素材必須達到以上表面要求,才能進爐真空爐體內(nèi)電鍍。一般情況下,素材表面在滿足使用的條件下,表面光潔度越好,膜層結(jié)合力越好,效果也越好。

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