離子鍍膜（PVD鍍膜）技術從上世紀四十年代開始發(fā)展是最快的，到如今它已經(jīng)成為了當代最先進的以電子學為中心的表面鍍膜的新技術。真空蒸發(fā)鍍膜是真空鍍膜技術分類的其中之一，真空蒸發(fā)鍍膜的膜層最主要是由溫度決定的，溫度的高低決定了膜層在到達被鍍膜的基片上是否純凈和牢固，同時膜層也不至于被氧化PVD蒸發(fā)鍍膜的基片表面狀態(tài)對膜層的結構也有影響，制備膜層一般都要求性能穩(wěn)定，更加耐磨損耐腐蝕性，與工件表面附著牢固。

PVD蒸發(fā)鍍膜的一些金屬蒸發(fā)溫度是非常極高的，如常見的金屬膜鋁（Al)的蒸發(fā)溫度是1148攝氏度、鈦（Ti）的蒸發(fā)溫度是1546攝氏度、鉬（Mo）的蒸發(fā)溫度是2533攝氏度等；還有一些碳化物膜（Tic)以及氧化物膜（Tio），它們的蒸發(fā)溫度都在一千攝氏度以上甚至更高，這些蒸發(fā)物在高溫真空的環(huán)境下依然會釋放氣體，從而導致鍍膜空間內(nèi)的壓強發(fā)生變化，這樣就會影響鍍膜機所鍍的膜層質(zhì)量好壞。

真空蒸發(fā)鍍膜的蒸發(fā)物種類很多，蒸發(fā)物所鍍出來的膜層也可以鍍成很多顏色，如我們常見的金色、灰色和黑色等；同樣所鍍膜層也可以在很多材料上進行鍍膜，例如金屬五金、陶瓷、玻璃等；如有想了解真空蒸發(fā)鍍膜，歡迎致電：18018743855  0755-27865425